納米粒子測量系統(tǒng)VIPR日本TOKYO DYLEC東京樂彩納米粒子測量系統(tǒng)VIPR日本TOKYO DYLEC東京樂彩納米粒子測量系統(tǒng)VIPR日本TOKYO DYLEC東京樂彩納米粒子測量系統(tǒng)VIPR日本TOKYO DYLEC東京樂彩納米粒子測量系統(tǒng)VIPR日本TOKYO DYLEC東京樂彩納米粒子測量系統(tǒng)VIPR日本TOKYO DYLEC東京樂彩

－自動車排ガス中の不揮発性（個體）粒子の粒子數(shù)を計測、R83要求仕様に対応－
＜概要＞
ナノ粒子計測システムViPRは、自動車排ガス中の不揮発性（個體）粒子の粒子數(shù)を計測する為のシステムです。

この原型が、Golden Instrument （基準システム）としてPMPインターラボ（參加諸國ラボ間の相関テスト）にて用いられ、その後R83要求仕様に完全に対応する改良が加えられたものです。

また、小型で移動?設(shè)置が容易であり、かつCVSトンネルの有無を問わず利用できる為、研究?開発の用途にも適しています。

＜特徴＞
本システムは、サンプリング/希釈部、蒸発管+希釈エアー供給部、CPC（個數(shù)カウンター）、これらを制御するコントロール部から構(gòu)成されております。 アナログ/デジタル入力/出力のインターフェースがあるのでトリガー信號など送ることで離れた場所から等でも起動出來ます。
＜仕様＞
＜サンプリング、希釈 ／ 回転式ディスクダイリューター　MD19－3E＞
希釈率 1:15～1:3000 Hot dilution 加熱された希釈ブロックと希釈エアー 加熱溫度 80/120/150℃を回転スイッチで調(diào)節(jié) セットアップ 10mm外徑のサンプリングプローブと排気プローブを接続
＜サーモコンディショニング ／ 蒸発管+希釈エアー供給部　ASET15-1＞
ヒーティングラインの加熱溫度 環(huán)境溫度以上～400℃ 1次希釈エアー流量 1.5L/min （固定　MD19-3E用） 2次希釈エアー流量 0～15L/min （希釈倍率1～11） 制御 前面パネルからのローカルコントロールまたはインターフェースユニットCU-2を介したリモートコントロール ユニット 1次希釈エアー源?2次希釈エアー源?蒸発管溫度コントロールシステムを內(nèi)蔵、19インチ ラックモジュール
＜個數(shù)測定 ／ CPC、RS232シリアルインターフェース付のモデルに対応＞
確度、測定範(fàn)囲、応答時間 CPCのモデルによって異なる 追加測定信號 5アナログ入力があり追加センサーやシグナルを接続できます
＜システムコントロール ／ デジタルコントロールユニット　CU-2＞
機能 1次希釈、2次希釈、蒸発管加熱溫度、を制御?モニタリング、CPCのステータスモニター、個數(shù)濃度モニター、アナログ入力モニターをリアルタイム測定でコンピューターなどで記録可能 リモートＰＣ作業(yè) イーサネットで接続?。ǎ裕茫?ＩＴ） ユニット 19インチ ラックモジュール
＜セットアップ ／ 全ての19インチモジュ-ルが19インチキャビネットに収納＞
寸法 約55×30×60ｃｍ 重量 60ｋｇ 電源 90－260VAC、50/60Hz 消費電力　300VA?。∕ax）
※仕様は予告なく変更される場合がありますのでご了承ください。